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動態吸附儀的操作方法及注意事項

動態吸附儀的操作方法及注意事項。

1.操作方法(TPR)。

1.樣品安裝在反應器中。

2.打開主機電源和操作軟件。

3.閥2接入氧氣,打開閥2,閥7打向閥2,閥8打向排空,氣流計調整至40-60ml/min,樣品加熱氧化。氧化溫度和時間取決于具體樣品。

4.閥1與氬氣相連,閥7向閥1.1.2質量流量計流量為30ml/min,放下加熱爐,冷卻至加熱爐降至室溫。

5.閥1切至氫氬混合氣室溫吹掃5-10min,閥8打向TCD。

6.打開TCD,基線穩定后升起加熱爐,開始加熱。

7.峰圖顯示基線穩定后,關閉TCD,關閉溫度控制器,減少加熱爐,保存數據。

8.閥1切至氬氣吹掃5-10min。

9.關閉氣體、主機電源和操作軟件。

動態吸附儀注意事項。

1.先通載氣體,再打開TCD,再關閉TCD,再處理其他操作(TCD燒壞)。

2.主機和軟件無記憶功能,必須在軟件中重新設置閥門開關和1.2質量流量計流量。

3.在連續進入氫氧處理樣品時,惰性氣體必須在中間吹掃。

  以上就是小編為大家介紹的動態吸附儀的操作方法及注意事項,看完這篇文章相信大家應該有所了解了,感謝大家耐心的閱讀!


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